| 发明名称 | 用于改进MEMS器件的致动器层上的表面粗糙度和消除尖角的方法 | ||
| 摘要 | 在此披露了一种用于形成MEMS器件的致动器层的方法。该方法包括对致动器层进行蚀刻并且在蚀刻之后对致动器层进行退火处理以减少MEMS器件的表面粗糙度。 | ||
| 申请公布号 | CN105084304A | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201510251130.7 | 申请日期 | 2015.05.18 |
| 申请人 | 因文森斯公司 | 发明人 | 彼得·斯米斯;申钟禹;申钟二 |
| 分类号 | B81C1/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 李慧慧;郑霞 |
| 主权项 | 一种用于形成MEMS器件的致动器层的方法，该方法包括：对该致动器层进行蚀刻；并且在蚀刻之后对该致动器层进行退火处理以减小该MEMS器件的表面粗糙度。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||