METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A SELECTIVELY GROUNDED AND MOVABLE PROCESS KIT RING

摘要

기판을 프로세싱하기 위한 방법들 및 장치의 실시예들이 본원에서 제공된다. 몇몇 실시예들에서, 기판 프로세스 챔버를 위한 프로세스 키트는: 본체 및 본체로부터 방사상 내측으로 연장되는 립(lip)을 갖는 링 ― 본체는 본체의 바닥부에 형성된 제 1 환형 채널을 가짐 ―; 링의 제 1 환형 채널과 인터페이싱하도록 구성된 상향으로 연장되는 부분에서 종결되는 내측으로 연장되는 하부 렛지(ledge)를 갖는 환형 전도성 쉴드; 및 링이 전도성 쉴드 상에 배치될 때 링을 전도성 쉴드에 전기적으로 커플링시키는 전도성 부재를 포함할 수 있다.