SUSCEPTORS FOR ENHANCED PROCESS UNIFORMITY AND REDUCED SUBSTRATE SLIPPAGE

摘要

기판을 지지하기 위한 장치가 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 기판 지지부는 최상부 표면을 갖는 서셉터 플레이트; 최상부 표면 내에 형성되는 리세스 ― 리세스는 에지에 의해 정의됨 ―; 및 리세스 내에 리세스의 에지를 따라 배치되는 복수의 각을 이룬 지지 엘리먼트들을 포함하며, 각각의 각을 이룬 지지 엘리먼트는 리세스의 중심을 향해 아래쪽으로 경사진 제 1 표면을 포함한다.