Compositions and processes for immersion lithography
摘要
<p>침지 리소그래피(immersion lithography)에 유용한 신규 포토레지스트 조성물이 제공된다. 본 발명의 바람직한 포토레지스트 조성물은 레지스트의 수지 성분과 실질적으로 비혼합성일 수 있는 2 이상의 상이한 물질을 포함한다. 본 발명의 특히 바람직한 포토레지스트는 침지 리소그래피 처리동안 레지스트층과 접촉하는 침지 유체로 레지스트 물질이 침출하는 것을 감소시킬 수 있다.</p>
