| 摘要 |
통합형 극자외선 블랭크 생산 시스템은, 기판을 진공에 위치시키기 위한 진공 챔버; 기판을 진공으로부터 제거하지 않고, 다층 스택을 증착시키기 위한 증착 시스템; 및 비결정질 금속성 층으로서 증착될 다층 스택 상의 층을 처리하기 위한 처리 시스템을 포함한다. 극자외선 마스크 블랭크를 제조하기 위한 물리 기상 증착 챔버는, 붕소와 합금된(alloyed with) 몰리브덴을 함유하는 타겟을 포함한다. 극자외선 리소그래피 시스템은, 극자외선 광 소스; 극자외선 광 소스로부터의 광을 지향시키기 위한 거울; 비결정질 금속성 층을 갖는 다층 스택이 구비된 극자외선 마스크 블랭크를 위치시키기 위한 레티클(reticle) 스테이지; 및 웨이퍼를 위치시키기 위한 웨이퍼 스테이지를 포함한다. 극자외선 블랭크는, 기판; 비결정질 금속성 층을 갖는 다층 스택; 및 다층 스택 위의 캐핑(capping) 층들을 포함한다. |
