| 摘要 |
본 발명의 실시예들은 일반적으로 서셉터 지지 샤프트들, 및 서셉터 지지 샤프트들을 포함하는 프로세스 챔버들에 관한 것이다. 서셉터 지지 샤프트는 그 위에 서셉터를 지지하고, 차례로 서셉터는 처리 중에 기판을 지지한다. 서셉터 지지 샤프트는, 서셉터 지지 샤프트가 회전할 때에도, 서셉터 및/또는 기판을 향하여 지향되는 고온계 초점 빔에 대해 일관된 경로를 제공함으로써 서셉터 및/또는 기판의 온도 측정에서의 변동을 감소시킨다. 서셉터 지지 샤프트들은 프로세스 챔버의 램프업 및 램프다운 속도를 증가시키는 비교적 낮은 열 용량을 또한 갖는다. 일부 실시예들에서, 맞춤형으로 제작된 굴절 요소가 솔리드 디스크의 상부에 제거가능하게 배치되어, 에피택시 프로세스의 최적의 두께 균일성을 위해 서셉터 및/또는 기판에 걸쳐 2차 열 분배를 재분배할 수 있다. |
