| 主权项 |
一种光阻组成物，其特征为至少包含以下成分：(A)高分子化合物，具有1个以上之以下列通式(1)及/或(2)表示之结构之重复单元，其中该高分子化合物更包含具有内酯环之密合性基的重复单元及选择性地更包含1个以上以下列通式(6)表示之酸不稳定单元及/或具有羟基之密合性基的重复单元，构成该高分子化合物之各重复单元之组成比满足：a+b+c+d=100 30≦a≦80 0≦b≦40 0≦c≦20 20≦d≦50其中具有下列通式(1)及/或(2)式表示之结构之重复单元之合计含有率为a莫耳%，下列通式(6)表示之酸不稳定单元之合计含有率为b莫耳%、具有羟基之重复单元之合计含有率为c莫耳%、具有内酯环之重复单元之合计含有率为d莫耳%，且该高分子化合物之硷溶解性由于酸而提高；(B)光酸发生剂，感应高能量射线并产生下列通式(3)表示之磺酸；及(C)以下列通式(4)表示之磺酸鎓盐；
(式中，R1、R3各自独立地表示氢原子或甲基；R2、R4各自独立地表示也可含氧原子之碳数1~7之直链状、分支状或环状之烷基)(式中，R12表示氢原子或甲基；x表示0或1；L表示酸不稳定基)(式中，R5表示氢原子或三氟甲基；R6表示取代或非取代之碳数1~23之直链状、分支状或环状之烷基、或取代或非取代之碳数6~14之芳基)(式中，R7表示也可含杂原子的一价之烃基；惟，R7为乙烯基及异丙烯基的情形除外；n表示1~3之整数；M+表示具有取代基的相对阳离子，为鋶阳离子、錪阳离子、及铵阳离子中之任一者)。 |
