发明名称 用于极紫外线微影的曝照光学组件
摘要
申请公布号 TWI509365 申请公布日期 2015.11.21
申请号 TW099143173 申请日期 2010.12.10
申请人 卡尔蔡司SMT有限公司 发明人 安德烈斯 马丁;多尔 赛巴斯汀;贝林 史汀;克区 马克
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项 一种用于EUV微影的照射光学单元,包含:具有复数第一反射琢面元件之第一光学元件以及具有复数第二反射琢面元件之第二光学元件,其中该复数第一反射琢面元件之各第一反射琢面元件实施成具有个别最大数目的不同位置,其定义与该第一反射琢面元件相关的一集合,该集合由该些第二反射琢面元件所构成,其中该集合是由该照射光学单元操作期间在不同位置的该第一反射琢面元件将辐射导向到的所有第二反射琢面元件所构成,以及其中该复数第二反射琢面元件形成复数分离群组,其中:该些群组的每一个及该些集合的每一个包含至少两个第二反射琢面元件,以及集合中没有两个第二反射琢面元件是属于相同群组;其中该等第一反射琢面元件的数目小于该等第二反射琢面元件的数目。
地址 德国