发明名称 清洗机构与制程设备
摘要
申请公布号 TWM512448 申请公布日期 2015.11.21
申请号 TW104215159 申请日期 2015.09.18
申请人 亚智科技股份有限公司 发明人 古志华;詹益全
分类号 B08B3/00;H01L21/02 主分类号 B08B3/00
代理机构 代理人 林坤成 台北市信义区松德路171号2楼;林瑞祥 台北市信义区松德路171号2楼
主权项 一种清洗机构,适用制程一基板及清洗一制程设备的一腔室,该清洗机构包含:复数个喷管,位于该腔室内,该复数个喷管包含复数个喷孔,该复数个喷孔提供一流体喷洒至该基板或该腔室,各该喷管具有一第一旋转模式及一第二旋转模式,该第一旋转模式为各该喷管沿轴向旋转一第一角度,该第二旋转模式为各该喷管沿轴向旋转一第二角度;以及一驱动机构,连接于该复数个喷管,该驱动机构用以驱动该复数个喷管以该第一旋转模式或该第二旋转模式旋转,其中在第一旋转模式下,该驱动机构驱动该复数个喷管沿轴向旋转该第一角度,且该复数个喷孔喷洒该流体至该基板,在该第二旋转模式下,该驱动机构驱动该复数个喷管沿轴向旋转该第二角度,且该复数个喷孔喷洒该流体至该腔室。
地址 桃园市中坜区工业区自强三路3号