| 主权项 |
一种在一基板上形成包含一化学磊晶模板(chemical epitaxy template)之一图案化模板的方法，以用于定向(orientation)包含第一聚合物嵌段(polymer block)及第二聚合物嵌段之一可自我组合嵌段共聚物，该方法包含：将一正调性(positive tone)抗蚀剂之一抗蚀剂层提供于该基板上，该抗蚀剂层具有与该基板之一界面及与该界面对置(opposed)之一外部面(outer face)；藉由一光微影方法，用光化辐射(actinic radiation)来选择性地曝光该抗蚀剂层之一第一部分，从而在该外部面处留下一未经曝光部分，其具有大于或等于该光微影方法之一临界尺寸大小之一宽度，其中该选择性曝光以足以曝光经曝光部分之间的该抗蚀剂层之一连续区(continuous region)之光化辐射之一强度进行，在该界面处留下一界面未经曝光抗蚀剂部分，其具有小于该光微影方法之该临界尺寸大小之一宽度；及移除该经曝光抗蚀剂层，该未经曝光抗蚀剂部分系作为第一剩余抗蚀剂部分而留在该界面处，该等第一剩余抗蚀剂部分系藉由经裸露(bared)基板之一部分分离，其中该等第一剩余抗蚀剂部分提供用于该图案化模板之该化学磊晶模板之一基础(basis)。
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