发明名称 含金属氧化物之膜形成用组成物及图案形成方法
摘要
申请公布号 TWI509027 申请公布日期 2015.11.21
申请号 TW103100412 申请日期 2014.01.06
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 荻原勤;上田贵史;橘诚一郎;种田义则
分类号 C08L85/00;G03F7/11;H01L21/027 主分类号 C08L85/00
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种含金属氧化物之膜形成用组成物,其特征为含有作为(A)成分之含有金属氧化物之化合物A1及作为(B)成分之芳香族化合物;该(A)成分系将1种以上之下列通式(A-1)表示之水解性金属化合物予以水解或缩合、或实施此两者而得之含有金属氧化物之化合物A1;L(OR0A)a0(OR1A)a1(O)a2(A-1)(式中,R0A、R1A为碳数1~30之有机基,a0、a1、a2为0以上之整数且a0+a1+2×a2系由L之种类决定的价数,L为铝、镓、钇、钛、锆、铪、铋、锡、钒或钽)该(B)成分系下列通式(B-1)表示之因热或酸、或因此两者而产生羟基之芳香族化合物;(式中,d1、d3为1、2、3中任一整数,d2为0、1、2中任一整数;E、G为直接键结或包含1个以上之碳、氧、氮、氢原子之2价有机基,D1、D2、D3可分别相同也可不同,为下列通式(B-1a)或(B-1b)表示之有机基中任一者)(式中,R1、R2、R3可分别相同也可不同,为下列通式(B-1c)、(B-1d)、(B-1e)表示之有机基中之任一者;R4、R5、R6可分别相同也可不同,为氢原子或碳数1~20之烷基,也可进一步2个烷基键结并形成环状取代基)(式中,Q1B~Q4B为氢原子或碳数1~20之烷基,也可进一步选自Q1B~Q4B中的任意2个取代基键结并形成环状取代基;Q5B~Q7B为碳数1~20之烷基,也可进一步选自Q5B~Q7B中的任意2个取代基键结并形成环状取代基;Q8B、Q9B为碳数1~20之烷基,也可进一步Q8B、Q9B彼此键结并形成环状取代基)。
地址 日本