发明名称 基板处理装置
摘要
申请公布号 TWI508793 申请公布日期 2015.11.21
申请号 TW102132773 申请日期 2013.09.11
申请人 斯克林集团公司 发明人 桥诘彰夫;太田乔
分类号 B05D3/00;B05D1/40 主分类号 B05D3/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种基板处理装置,其系为用于使用处理液而将基板加以处理者,且包括有:基板保持手段,其保持基板;处理液供给手段,其对由上述基板保持手段所保持之基板之表面选择性地供给复数种处理液;基板旋转手段,其使由上述基板保持手段所保持之基板旋转;加热器支撑构件,其以自上述基板保持手段独立之方式支撑加热器;移动手段,其以上述加热器与由上述基板保持手段所保持之基板为接近/背离之方式使上述基板保持手段及上述加热器支撑构件中之至少一者移动;及控制装置,其控制上述移动手段,将由上述基板保持手段所保持之基板与上述加热器之相对位置,配置于与被供给至上述基板之处理液的种类对应之既定位置。
地址 日本