THERMAL MANAGEMENT APPARATUS FOR SOLID STATE LIGHT SOURCE ARRAYS

摘要

프로세스 챔버 내에 펄스형 또는 연속적인 에너지를 제공하는 장치가 본원에서 제공된다. 이 장치는, 챔버 본체를 포함하는 프로세스 챔버, 프로세스 챔버에 펄스형 또는 연속적인 에너지를 제공하기 위해, 제 1 기판 상에 배치되는 복수의 고체 상태 광 소스들을 갖는 고체 상태 광 소스 어레이, 및 고체 상태 광 소스 어레이를 가열하는 것으로부터 반사되는 광의 양을 감소시키기 위한, 대역 통과 필터를 포함하는 냉각 메커니즘을 포함할 수 있다.