发明名称 |
Integrierte, floatende Diodenstruktur |
摘要 |
Halbleiterbauelement, umfassend: ein Halbleitersubstrat eines ersten Leitfähigkeitstyps; einen ersten dotierten Bereich eines zweiten Leitfähigkeitstyps entgegengesetzt zu dem ersten Leitfähigkeitstyp auf dem Halbleitersubstrat; einen zweiten dotierten Bereich des ersten Leitfähigkeitstyps angrenzend an den ersten dotierten Bereich; einen Kathodenbereich des zweiten Leitfähigkeitstyps innerhalb des zweiten dotierten Bereichs; einen Anodenbereich des ersten Leitfähigkeitstyps innerhalb des Kathodenbereichs; eine erste Elektrode, die mit dem Anodebereich elektrisch verbunden ist; und eine zweite Elektrode die mit dem Kathodenbereich und dem zweiten dotierten Bereich elektrisch verbunden ist, wobei der erste dotierte Bereich als ein floatender Bereich ausgeführt ist; |
申请公布号 |
DE202015105413(U1) |
申请公布日期 |
2015.11.20 |
申请号 |
DE201520105413U |
申请日期 |
2015.10.13 |
申请人 |
SEMICONDUCTOR COMPONENTS INDUSTRIES, LLC |
发明人 |
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分类号 |
H01L29/861;H01L23/60;H01L29/167 |
主分类号 |
H01L29/861 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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