发明名称 Integrierte, floatende Diodenstruktur
摘要 Halbleiterbauelement, umfassend: ein Halbleitersubstrat eines ersten Leitfähigkeitstyps; einen ersten dotierten Bereich eines zweiten Leitfähigkeitstyps entgegengesetzt zu dem ersten Leitfähigkeitstyp auf dem Halbleitersubstrat; einen zweiten dotierten Bereich des ersten Leitfähigkeitstyps angrenzend an den ersten dotierten Bereich; einen Kathodenbereich des zweiten Leitfähigkeitstyps innerhalb des zweiten dotierten Bereichs; einen Anodenbereich des ersten Leitfähigkeitstyps innerhalb des Kathodenbereichs; eine erste Elektrode, die mit dem Anodebereich elektrisch verbunden ist; und eine zweite Elektrode die mit dem Kathodenbereich und dem zweiten dotierten Bereich elektrisch verbunden ist, wobei der erste dotierte Bereich als ein floatender Bereich ausgeführt ist;
申请公布号 DE202015105413(U1) 申请公布日期 2015.11.20
申请号 DE201520105413U 申请日期 2015.10.13
申请人 SEMICONDUCTOR COMPONENTS INDUSTRIES, LLC 发明人
分类号 H01L29/861;H01L23/60;H01L29/167 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人
主权项
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