发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>본 발명은 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명은 기판이 놓여지는 스핀 헤드를 포함하는 기판지지부재; 상기 스핀 헤드 주위를 감싸도록 설치되어 기판상에서 비산되는 처리유체를 회수하는 처리 용기; 및 스윙 방식으로 회전 운동하며 처리유체를 분사하는 이동 노즐 부재를 포함하되; 상기 스핀 헤드는 기판을 지지하는 지지핀들과 기판 가장자리를 척킹하는 척킹핀들을 포함하고, 상기 지지핀은 상기 스핀 헤드 및 상기 처리 용기의 세정 및 건조시 기류를 발생시키기 위한 날개를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101570167(B1) 申请公布日期 2015.11.20
申请号 KR20140184855 申请日期 2014.12.19
申请人 세메스 주식회사 发明人 안효준;박귀수;김춘식;이재명;강준기;노환익;김진섭;여영구
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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