ULTRA-SMOOTH LAYER ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MIRRORS AND BLANKS, AND MANUFACTURING AND LITHOGRAPHY SYSTEMS THEREFOR

摘要

극자외선 거울 또는 블랭크 생산 시스템은, 반도체 기판 위에 평탄화 층을 증착시키기 위한 제 1 증착 시스템; 평탄화 층 위에 초-평활 층을 증착시키기 위한 제 2 증착 시스템 ― 초-평활 층은 재조직된 분자들을 가짐 ―; 및 초-평활 층 위에 다층 스택을 증착시키기 위한 제 3 증착 시스템을 포함한다. 극자외선 블랭크는, 기판; 기판 위의 평탄화 층; 평탄화 층 위의 초-평활 층 ― 초-평활 층은 재조직된 분자들을 가짐 ―; 다층 스택; 및 다층 스택 위의 캐핑 층들을 포함한다. 극자외선 리소그래피 시스템은, 극자외선 광 소스; 극자외선 광 소스로부터의 광을 지향시키기 위한 거울; 평탄화 층 및 평탄화 층 위의 초-평활 층을 갖는 극자외선 마스크 블랭크를 위치시키기 위한 레티클 스테이지; 및 웨이퍼를 위치시키기 위한 웨이퍼 스테이지를 포함한다.