| 摘要 |
1. Способ генерации многомерного изображения образца, который включает:захват первого двухмерного изображения подложки области поверхности образца с использованием первой модальности захвата изображения, причем захватывают местоположения по меньшей мере одного материала на области поверхности;захват второго двухмерного изображения подложки области поверхности с использованием второй модальности захвата изображения, которая отличается от первой модальности захвата изображения, причем вторая модальность захвата изображения обеспечивает более высокую точность в отношении местоположений по меньшей мере одного материала на области поверхности, чем первая модальность захвата изображения;пространственное выравнивание первого двухмерного изображения подложки, основываясь на втором двухмерном изображении подложки;генерацию первого скорректированного двухмерного изображения подложки по меньшей мере отчасти на основе местоположений по меньшей мере одного материала на втором двухмерном изображении подложки.2. Способ по п. 1, в котором первое скорректированное двухмерное изображение подложки содержит содержимое первого материала, определяемое посредством второй модальности, которая имеет более высокую точность в отношении идентификации этого первого материала, чем при измерении с использованием первоймодальности, и содержимое пористости образца определяютпосредством первой модальности, которая имеет более высокую точность в отношении идентификации пористости на первом двухмерном изображении, чем вторая модальность.3. Способ по п. 1, в котором указанная генерация включает:идентификацию место |
