| 摘要 |
<p>【課題】ディップ槽中の薄膜化処理液によってレジスト層中の成分をミセル化させる薄膜化処理ユニットを備えてなるレジスト層の薄膜化装置において、基板上面のレジスト層表面の薄膜化処理液の被覆量分布を最小限に抑えることにより、レジスト層の薄膜化処理量が不均一になる問題を解決することができるレジスト層の薄膜化装置を提供する。【解決手段】薄膜化処理ユニット１１が、基板３下面のレジスト層に薄膜化処理液を付与するためのディップ槽２を有し、基板３上面のレジスト層に薄膜化処理液をロール塗工で付与するための塗工ロール８が設置されている。【選択図】図２</p> |
