| 摘要 |
<p>Verfahren zur CVD-Beschichtung, bei dem–auf einem Substrat in einer kohlenstoffhaltigen Gasatmosphäre eine Schicht abgeschieden wird,–wobei die Prozeßparameter während der Beschichtungsdauer so variiert werden, dass mehrfach während der Beschichtungsdauer zwischen einem ersten Betriebszustand und einem zweiten Betriebszustand gewechselt wird,–wobei im ersten Betriebszustand eine höhere Kohlenstoff-Übersättigung der Gasatmosphäre in Substratnähe eintritt,–und im zweiten Betriebszustand eine geringere Kohlestoff-Übersättigung der Gasatmosphäre in Substratnähe eintritt,–wobei während der Zeit, in der die Schicht um 1μm wächst, mindestens 200 Wechsel zwischen den Betriebszuständen erfolgen.</p> |
