| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, mit einem Manipulator zur Korrektur von Wellenfrontfehlern optischer Nutzstrahlung, welche ein optisches Element des Manipulators während des Betriebes des Projektionsobjektives durchtreten, wobei das optische Element beispielsweise als planparalleles Element ausgebildet ist und der Manipulator in Richtung der optischen Nutzstrahlung unmittelbar nach einem Reticle der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet ist. |
