发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE
摘要 <p>본 발명은 기판의 회전 속도를 변경할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판이 로딩되고 기판을 회전시키는 스핀 척과, 상기 스핀 척을 회전시키는 스핀 모터를 구동하는 구동부와, 상기 스핀 척의 회전 속도가 변화되도록 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함하되, 기판의 회전 속도가 제1 속도와 제2 속도 간에 변경되는 동안 기판의 회전 가속도는 계속적으로 변경되는 구간을 가진다.</p>
申请公布号 KR101570163(B1) 申请公布日期 2015.11.19
申请号 KR20140015670 申请日期 2014.02.11
申请人 세메스 주식회사 发明人 정재정;윤교상;장종수
分类号 H01L21/027;H01L21/683 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址