| 发明名称 | 一种高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明的高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法，包括步骤：首先，提供一衬底，采用低能离子束辐射所述衬底的表面，形成锯齿状纳米结构周期阵列；然后在所述锯齿状纳米结构周期阵列的表面生长周期性多层膜，形成极紫外多层膜闪耀光栅。本发明制备极紫外多层膜闪耀光栅只需要两步，大大简化了传统制备方法的复杂工艺。此外，采用本发明的制备方法，将大大增加闪耀光栅的栅线密度，从而大幅度地提高极紫外多层膜闪耀光栅的衍射效率和光谱分辨率。 | ||
| 申请公布号 | CN105068166A | 申请公布日期 | 2015.11.18 |
| 申请号 | CN201510275299.6 | 申请日期 | 2015.05.26 |
| 申请人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;德国亥姆霍兹德累斯顿罗森多夫研究中心 | 发明人 | 欧欣;贾棋;斯蒂芬·福斯柯;王曦 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 余明伟 |
| 主权项 | 一种高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括：提供一衬底，采用低能离子束辐射所述衬底的表面，形成锯齿状纳米结构周期阵列；在所述锯齿状纳米结构周期阵列的表面生长周期性多层膜，形成极紫外多层膜闪耀光栅。 | ||
| 地址 | 200050 上海市长宁区长宁路865号 | ||