发明名称 半導体装置及びその製造方法、電源装置
摘要 A semiconductor device includes a drift layer having a structure wherein a plurality of quantum dot layers each including a quantum dot containing InxGa1-xN (0≦̸x≦̸1) and a burying layer burying the quantum dot and containing n-type Inx(GayAl1-y)1-xN (0≦̸x≦̸1, 0≦̸y≦̸1) are stacked.
申请公布号 JP5817833(B2) 申请公布日期 2015.11.18
申请号 JP20130538404 申请日期 2011.10.14
申请人 富士通株式会社 发明人 岡本 直哉
分类号 H01L29/06;H01L21/20;H01L21/329;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/04;H01L27/06;H01L29/12;H01L29/201;H01L29/47;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/868;H01L29/872 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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