发明名称 氮化物半导体器件
摘要 氮化物半导体器件包括:衬底(10);氮化物半导体层叠体(1、2);和电极金属层(13)。电极金属层(13)包括:第一金属层(24),该第一金属层(24)与氮化半导体层叠体(1、2)接合,并且具有包含多个柱部(A)的微细柱状构造;和第二金属层(25),该第二金属层(25)层叠在第一金属层(24)上,并且具有包含多个柱部(B)的微细柱状构造,第二金属层(25)的微细柱状构造的柱部(B)的粗细方向的平均尺寸,大于第一金属层(24)的微细柱状构造的柱部(A)的粗细方向的平均尺寸。
申请公布号 CN105074888A 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201480019229.8 申请日期 2014.01.27
申请人 夏普株式会社 发明人 森下敏;民谷哲也;仲山宽
分类号 H01L21/338(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/812(2006.01)I 主分类号 H01L21/338(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳;池兵
主权项 一种氮化物半导体器件,其特征在于,包括:衬底(10);形成在所述衬底(10)上且具有异质界面的氮化物半导体层叠体(1、2);和形成在所述氮化物半导体层叠体(1、2)上的电极金属层(13),所述电极金属层(13)包括:第一金属层(24),该第一金属层(24)与所述氮化物半导体层叠体(1、2)接合,并且具有包含多个柱部(A)的微细柱状构造;和第二金属层(25),该第二金属层(25)层叠在所述第一金属层(24)上,并且具有包含多个柱部(B)的微细柱状构造,所述第二金属层(25)的所述柱部(B)的粗细方向的平均尺寸,大于所述第一金属层(24)的所述柱部(A)的粗细方向的平均尺寸。
地址 日本大阪府