一种用于高氯砷生产的真空升华装置

摘要

本申请属于高纯砷领域，尤其涉及一种用于高纯砷生产的真空升华装置。本申请提供的真空升华装置包括：真空罐；所述真空罐内腔中设置有储料容器、沉积管和冷凝罩；所述储料容器设置在真空罐内腔底部，开口朝上；所述沉积管设置在储料容器上方，所述沉积管的进料端与所述储料容器的开口端相接触，且所述沉积管的出料端外壁设置有挡板；所述冷凝罩开口朝下，且所述冷凝罩通过挡板支撑在沉积管的出料端。本申请通过在沉积管的出料端设置冷凝罩，使低沸杂质蒸汽尽可能在冷凝罩中沉积，从而减少了低沸杂质蒸汽在真空罐内壁的沉积量，降低了低沸杂质对真空罐内壁的污染。

主权项

一种用于高氯砷生产的真空升华装置，包括：真空罐；所述真空罐内腔中设置有储料容器、沉积管和冷凝罩；所述储料容器设置在真空罐内腔底部，开口朝上；所述沉积管设置在储料容器上方，所述沉积管的进料端与所述储料容器的开口端相接触，且所述沉积管的出料端外壁设置有挡板；所述冷凝罩开口朝下，且所述冷凝罩通过挡板支撑在沉积管的出料端。