高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺

摘要

本发明公开一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺，包括一基材层，此基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层，此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层，此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层；制备一塑料基膜；在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层；在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层；然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层。本发明防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所；本发明同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。

主权项

一种高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）一表面磁控溅射有第一金属铟层（2），此第一金属铟层（2）另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层（31）或金属铝层（32），此金属银层（31）或金属铝层（32）另一表面磁控溅射有第二金属铟层（4）；所述第一金属铟层厚度为2~15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8~55nm，所述第二金属铟层厚度为5~20nm；所述基材层磁控溅射前在150~160℃下进行预热收缩处理；所述基材层（1）和第一金属铟层之间涂覆有厚度为0.5~5μm丙烯酸乳液层；所述高透高隔热节能防爆膜通过以下工艺获得，包括以下步骤：步骤一、制备一基材层（1），所述基材层为热稳定性基材层；步骤二、在步骤一的基材层上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为：采用纯度为99.99%的铟（In）的靶材，尺寸为1600×300×100mm，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10^‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22 sccm; 铟（In）的溅射功率是40 W，溅射速率为4.0nm/min，第一金属铟层厚度为2 nm到15nm；步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层，此隔热层为金属银层或金属铝层；工艺条件为：银的靶材尺寸为1600×300×100 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%高纯氩气，腔体内部的真空度为6. 1×10^‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75 mm，氩气的流量为22sccm，银靶材溅射功率是40W，溅射速率为 6.4 nm/min；步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层，工艺条件为：靶材尺寸为1600×300×100 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10^‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sccm，铟的溅射功率是40 W，溅射速率为4.0nm/min，所述第二金属铟层厚度为5~20nm。