发明名称 一种消除重力影响的薄基片变形测量方法
摘要 本发明公开了一种消除重力影响的薄基片变形测量方法,所述薄基片由三个支撑球支撑,包括以下步骤:通过测量确定三个支撑球的位置;将待测的薄基片放置于三个支撑球上,确定薄基片的厚度和位置;将测得的三个支撑球的位置信息和薄基片的厚度、轮廓与位置信息输入至有限元分析软件中,进行重力附加变形仿真,计算重力附加变形;扫描测得薄基片的总变形,总变形减去计算的重力附加变形,得出薄基片真实变形。本发明无离子污染,不使用液体,不产生表面张力附加变形;对支撑球的位置没有要求,不要求支撑机构的装配精度;不需要额外定心机构来保证薄基片中心处于正反测量翻转轴上。
申请公布号 CN105066897A 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201510496479.7 申请日期 2015.08.13
申请人 大连理工大学 发明人 董志刚;康仁科;刘海军;高尚;朱祥龙;周平;陈修艺
分类号 G01B11/16(2006.01)I 主分类号 G01B11/16(2006.01)I
代理机构 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人 高永德;李洪福
主权项 一种消除重力影响的薄基片变形测量方法,所述薄基片由三个支撑球支撑,其特征在于:包括以下步骤:①通过测量确定三个支撑球的位置;②将待测的薄基片放置于三个支撑球上,确定薄基片的厚度、位置和轮廓信息;③将步骤①和步骤②测得的三个支撑球的位置信息和薄基片的厚度、位置和轮廓信息输入至有限元分析软件中,进行重力附加变形仿真,计算重力附加变形;④扫描测得薄基片的总变形,总变形减去步骤③计算的重力附加变形,得出薄基片真实变形。
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