| 发明名称 | 成膜方法、计算机存储介质和成膜系统 | ||
| 摘要 | 本发明是在表面形成有图案的基板上形成有机膜的发明，在基板上涂布有机材料，此后，对该有机材料进行热处理，在基板上形成有机膜，此后，对该有机膜进行紫外线照射处理，将该有机膜的表面除去至规定的深度，由此在基板上适当且高效地形成有机膜。 | ||
| 申请公布号 | CN105074883A | 申请公布日期 | 2015.11.18 |
| 申请号 | CN201480009698.1 | 申请日期 | 2014.01.23 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 志村悟;岩尾文子;吉原孝介 |
| 分类号 | H01L21/312(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/312(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳;吕秀平 |
| 主权项 | 一种成膜方法，其在表面形成有图案的基板上形成有机膜，该成膜方法的特征在于，包括：在基板上涂布有机材料的涂布处理工序；此后，对所述有机材料进行热处理，在基板上形成有机膜的热处理工序；和此后，对所述有机膜进行紫外线照射处理，将该有机膜的表面除去至规定的深度的紫外线照射工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||