| 摘要 |
<p>본 발명은 광도파로의 제조 방법에 관한 것으로서, 언더클래드층(2)의 표면에 코어 형성용 감광성 수지층(3A)을 형성한 후, 상기 코어 형성용 감광성 수지층(3A)을 소정 패턴으로 노광하고, 상기 노광 부분을 코어(3)에 형성한다. 상기 노광 후, 코어 형성용 감광성 수지층(3A)의 노광 부분 및 미노광 부분(3a)의 표면을 오버클래드층 형성용 감광성 수지층(4A)으로 피복한다. 계속해서 상기 2층의 감광성 수지층(3A, 4A)을 가열하고, 상기 코어 형성용 감광성 수지층(3A)의 미노광 부분(3a)의 수지와 오버클래드층 형성용 감광성 수지층(4A)의 수지를 용융하여 혼합하여 혼합층(5A)으로 한다. 그리고, 상기 혼합층(5A)을 노광하고, 상기 노광된 혼합층(5A)을 제 3 클래드층(5)으로 형성하여 현상 공정이 불필요하고, 또한 코어의 굴절률과 클래드층의 굴절률의 차를 안정적으로 크게 설정할 수 있는 광도파로의 제조 방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.</p> |
