发明名称 | 磁控溅射镀膜装置 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜装置,它包括磁铁、连动磁铁运动的丝杆和带动丝杆运动的电机,所述磁铁为分段式结构,包括固定段和可调节段,其中,可调节段位于固定段的两端,可调节段分别与丝杆连接,所述丝杆分别与电机连接;上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元,所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。采用控制分段式的磁铁,使得每个小磁铁都可以独立控制,可以按照需求作灵活的调整。所以可以使得产品的膜厚均一性得到大大提升,从而良率也得到提升膜厚均一性越好,代表磁场强度也比较均匀,使得材料的消耗也比较均匀,不会因为某一部分的磁场过强,而使得整体的材料报废,也大大的节约了成本。本实用新型适用于磁控溅射镀膜。 | ||
申请公布号 | CN204779786U | 申请公布日期 | 2015.11.18 |
申请号 | CN201520423159.4 | 申请日期 | 2015.06.18 |
申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 王云靖 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人 | 乐卫国 |
主权项 | 一种磁控溅射镀膜装置,它包括磁铁(3)、连动磁铁(3)运动的丝杆(12)和带动丝杆(12)运动的电机(13),<b>其特征在于:</b>所述磁铁(3)为分段式结构,包括固定段和可调节段,其中,可调节段位于固定段的两端,可调节段分别与丝杆(12)连接,所述丝杆分别与电机(13)连接;上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元,所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。 | ||
地址 | 201506 上海市金山区九工路1568号 |