保護膜形成フィルム、保護膜形成用シート、保護膜形成用複合シートおよび加工物の製造方法

摘要

波長１０６４ｎｍの光線透過率が５５％以上であり、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であることを特徴とする保護膜形成フィルム（１）と、その保護膜形成フィルム（１）の一方の面または両面に積層された剥離シート（２１）とを備えた保護膜形成用シート（２）。かかる保護膜形成用シート（２）によれば、半導体ウエハなどのワークを、レーザーにより予備的に改質層を設け、力を与えることで分割することが可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することができる。