| 发明名称 |
HIGH THROUGHPUT PROCESSING SYSTEM FOR CHEMICAL TREATMENT AND THERMAL TREATMENT AND METHOD OF OPERATING |
| 摘要 |
<p>복수의 기판을 처리하기 위한 화학 처리 시스템 및 열처리 시스템을 구비하는 고생산성의 처리 시스템이 개시되어 있다. 화학 처리 시스템은 건식 비플라즈마 환경에서 복수의 기판을 화학적으로 처리하도록 구성되어 있다. 열처리 시스템은 화학 처리 시스템에서 화학적으로 처리된 복수의 기판을 열적으로 처리하도록 구성되어 있다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101569956(B1) |
申请公布日期 |
2015.11.17 |
| 申请号 |
KR20117004516 |
申请日期 |
2009.07.13 |
| 申请人 |
도쿄엘렉트론가부시키가이샤 |
发明人 |
월래스 제이 알;하멜린 토마스;다카하시 히로유키;라플람 아서 에이치;휘만 그레고리 알 |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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