发明名称 |
基板液体处理装置及基板液体处理方法与记录有基板液体处理程式之电脑可读取的记录媒体;SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD AND COMPUTOR READABLE RECORDING MEDIUM FOR RECORDING A SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM |
摘要 |
本发明之目的在于提供一种使用既定浓度的化学剂之水溶液作为处理液以对基板进行液体处理的基板液体处理装置,其可以处理液良好地处理基板。 本发明中,将处理液储存于处理液储存部,再将浓度与该处理液不同的该化学剂的水溶液供给至该处理液储存部,同时将该处理液从该处理液储存部排出,以更新储存于该处理液储存部的该处理液,此时,将既定量的该水溶液供给至该处理液储存部,同时将含有与「供给至该处理液储存部之该水溶液所含有的该化学剂量」相同化学剂量的该处理液从该处理液储存部排出。 |
申请公布号 |
TW201543595 |
申请公布日期 |
2015.11.16 |
申请号 |
TW104102932 |
申请日期 |
2015.01.29 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
原大海 HARA, HIROMI;佐藤秀明 SATO, HIDEAKI;河津贵裕 KAWAZU, TAKAHIRO;永井高志 NAGAI, TAKASHI |
分类号 |
H01L21/67(2006.01);H01L21/306(2006.01);B08B3/08(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋周良吉 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |