半导体装置之制造方法，基板处理装置及记忆媒体

摘要

本发明提供一种可调整金属膜之工作函数之技术。;该技术系对处理室内之基板交替地供给包含第1金属元素之第1原料、及包含与第1金属元素不同之第2金属元素及乙基配位基之第2原料，而于基板上形成第2金属元素与氮元素之结合为具有结晶性之复合金属氮化膜。