基板处理系统、基板处理方法、程式及电脑记忆媒体;SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, SUBSTRATE CONVEYANCE METHOD, PROGRAM AND COMPUTOR MEMORY MEDIUM

摘要

本发明提供一种基板处理系统、基板处理方法、程式及电脑记忆媒体，在利用EUV光的光微影处理中，仍抑制处理量的降低，并于基板上适宜地形成微细的图案。该基板处理系统具备：处理站11，施行光阻涂布处理、显影处理、热处理等处理；后曝光站13，在与藉由EUV光对晶圆W之光阻膜施行图案的曝光之曝光装置15间，具有对施行图案的EUV曝光后之晶圆W上的光阻膜，藉由UV光施行后曝光光照射装置102；以及控制部300。控制部300，依据晶圆检查装置71之检查结果，修正曝光量或热处理的加热温度中之至少任一者。