反射型空白光罩、反射型光罩、反射型光罩之制造方法、曝光方法及曝光装置

摘要

本发明提供一种反射型空白光罩，该反射型空白光罩系在反射型光罩之制造中，即使是除去位于图案区域之周围的反射多层膜而形成遮光框的情况，亦可减少由反射多层膜的压缩应力所引起之转印图案的位置偏差量，而可提高所转印之像的位置精度。本发明之一形态的反射型空白光罩(502)系在基板(10)之一个面依序重叠地设置反射多层膜(20)与吸收膜(30)，而在基板(10)之另一个面设置导电膜(50)，在反射型空白光罩(502)之外周部，设置基准标记(42)与位置量测标记(34)，而位置量测标记(34)系被利用来修正在形成遮光框时所产生之应力解放所造成的影响。