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发明名称
钨化学机械抛光(CMP)之组合物;COMPOSITION FOR TUNGSTEN CMP
摘要
本发明系关于一种用于抛光具有钨层之基板的化学机械抛光组合物,其包括基于水之液体载剂、分散于该液体载剂中且具有至少6mV永久性正电荷之胶态二氧化矽研磨剂、于该液体载剂中呈溶液形式之胺化合物及含铁加速剂。一种用于化学机械抛光包括钨层之基板的方法,其包括使该基板与上述抛光组合物接触,相对于该基板移动该抛光组合物,及研磨该基板以自该基板移除该钨之一部分,且藉此抛光该基板。
申请公布号
TW201542783
申请公布日期
2015.11.16
申请号
TW104107799
申请日期
2015.03.11
申请人
卡博特微电子公司 CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
发明人
戴萨 杰佛瑞 DYSARD, JEFFREY;富琳 FU, LIN;葛伦拜 史帝芬 GRUMBINE, STEVEN;沃德 威廉 WARD, WILLIAM;怀腾纳 葛伦 WHITENER, GLENN
分类号
C09K3/14(2006.01);C09G1/02(2006.01);C23F3/00(2006.01);B24B29/02(2006.01);B24B37/00(2012.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/321(2006.01)
主分类号
C09K3/14(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国 US
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