发明名称 荷电粒子射束描绘装置及荷电粒子射束描绘方法
摘要 本发明之一态样之荷电粒子射束描绘装置之特征为:具备有:放出部,其系放出荷电粒子射束;载台,其系供载置描绘对象试料;接物透镜,其系将荷电粒子射束对焦在试料面上;腔室,其系将载台配置在内部;测定部,其系在腔室内被控制成比大气压为更低的压力的状态下,测定腔室内的预定的气体的分压;及调整部,其系按照预定的气体的分压,调整将荷电粒子射束对焦在试料面上的聚焦位置。
申请公布号 TW201543521 申请公布日期 2015.11.16
申请号 TW104100281 申请日期 2015.01.06
申请人 纽富来科技股份有限公司 NUFLARE TECHNOLOGY, INC. 发明人 本杉知生 MOTOSUGI, TOMOO;大西孝幸 OHNISHI, TAKAYUKI;鹤田薰 TSURUTA, KAORU;大岁研司 OHTOSHI, KENJI
分类号 H01J37/10(2006.01);H01J37/20(2006.01);H01J37/21(2006.01);H01J37/302(2006.01);H01J37/317(2006.01) 主分类号 H01J37/10(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP