发明名称 |
镀浴组合物及钯之无电镀覆方法;PLATING BATH COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTROLESS PLATING OF PALLADIUM |
摘要 |
本发明系关于一种镀浴组合物及一种藉由无电镀覆将钯层沉积在基板上之方法。根据本发明之含水酸性镀浴包括钯离子源、还原剂、钯离子之氮化错合剂及选自由包括至少两个残基之芳香族化合物组成之群的水溶性稳定剂,其中至少一残基系亲水残基及至少一残基具有负中介效应。该镀浴具有提高之抗不想要分解的稳定性,同时维持充分镀覆速率。 |
申请公布号 |
TW201542874 |
申请公布日期 |
2015.11.16 |
申请号 |
TW104111686 |
申请日期 |
2015.04.10 |
申请人 |
德国艾托特克公司 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH |
发明人 |
苏诚传克 克里斯多夫 SUCHENTRUNK, CHRISTOF;葛鲁姆特 凯瑟林娜 GRUMMT, KATHARINA;克拉莫 朱利亚 CRAMER, JULIA |
分类号 |
C23C18/44(2006.01);H01L21/288(2006.01) |
主分类号 |
C23C18/44(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
德国 DE |