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发明名称
无电解电镀方法、无电解电镀装置及记忆媒体
摘要
在基板上形成被以良好精确度而作了图案化的复数层之金属层。在基板(11)上,设置被作了图案化的第1金属层(12)(图1(a)、(b))。接着,在第1金属层(12)上形成金属牺牲层(15),并且在金属牺牲层(15)上,涂布包含有能够与金属牺牲层(15)之金属作置换的被作了离子化之金属之水溶液。藉由此,而在金属牺牲层(15)上形成触媒层16(图1(c))。接着,对于触媒层(16)上施加无电解电镀而形成第2金属层(18)(图1(d)),并将此第2金属层(18)作为遮罩而对于基板(11)施加蚀刻。
申请公布号
TW201542872
申请公布日期
2015.11.16
申请号
TW104101959
申请日期
2015.01.21
申请人
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
水谷信崇 MIZUTANI, NOBUTAKA;岩下光秋 IWASHITA, MITSUAKI;田中崇 TANAKA, TAKASHI
分类号
C23C18/28(2006.01);C23C18/32(2006.01);C23C18/48(2006.01)
主分类号
C23C18/28(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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