| 发明名称 |
基板处理方法及基板处理装置;METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
提供一种基板处理方法，其所使用之基板处理装置具有：处理容器；以及旋转台，以可旋转方式设置于该处理容器内，具有基板载置部。该基板处理方法系将基板载置于该基板载置部，对该处理容器内供给处理气体，而对于被载置之该基板进行处理。在该基板被载置于该基板载置部之状态下，对该处理容器内至少供给水蒸气，而将该基板载置部之该基板搬出。 |
| 申请公布号 |
TW201542859 |
申请公布日期 |
2015.11.16 |
| 申请号 |
TW104102455 |
申请日期 |
2015.01.26 |
| 申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
羽根秀臣 HANE, HIDEOMI;梅原隆人 UMEHARA, TAKAHITO |
| 分类号 |
C23C16/448(2006.01);C23C16/458(2006.01);C23C16/52(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/677(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/448(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林秋琴陈彦希 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
