用于检测半导体晶圆的Ｘ射线检测装置（四）;X-RAY INSPECTION APPARATUS FOR INSPECTING SEMICONDUCTOR WAFERS

摘要

一种x射线检测系统包含：x射线源；样本支撑件，其用于支撑将要检测的样本；x射线侦测器；样本定位总成，其包括用于沿第一轴朝向及远离该x射线源移动该样本支撑件的第一定位机构；近接感测器，其固定至该x射线源，该近接感测器经组配以提供该x射线源与该样本支撑件上的样本之表面之间的距离量测；以及控制器，其连接至该近接感测器。来自该近接感测器的量测可用于影像处理计算中且防止样本与该x射线源之间的碰撞。; and a controller connected to the proximity sensor. Measurements from the proximity sensor can be used in image processing calculations and to prevent collision between a sample and the x-ray source.