| 摘要 |
여기에서 투명 전도성 전극의 제조 방법이 개시된다. 상기 방법은, 기판을 제공하는 단계, 다수의 금속 나노와이어들을 갖는 제1 영역을 포함하는 필름을 형성하는 단계, 여기서 금속 나노와이어들의 적어도 일부는 표면 기능화되고, 그리고 산화 또는 산 반응에 불활성임; 상기 금속 나노와이어 필름 내의 용매를 증발 제거시키는 단계; 상기 나노와이어 필름을 화학 시약에 노출시키는 단계; 나노와이어들을 포함하는 제2 영역을 형성하는 단계; 그리고 상기 제1 및 제2 영역을 갖는 필름을 어닐링하는 단계;를 포함하고, 상기 제1 및 제2 영역 사이의 저항 차이는 1000 이상인 것을 포함한다. |
