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发明名称
具有提高之崩溃电压的III-V电晶体;III-N TRANSISTORS WITH ENHANCED BREAKDOWN VOLTAGE
摘要
本发明有关于具有提高之崩溃电压之III-N电晶体的技术、结合此等电晶体的系统、及用以形成所讨论之这些电晶体的方法。此等电晶体包括位于基板之上具有开口的硬遮罩;源极、汲极、及位于源极与汲极之间的通道,且源极或汲极的一部分系配置在硬遮罩的开口之上。
申请公布号
TW201543668
申请公布日期
2015.11.16
申请号
TW104104764
申请日期
2015.02.12
申请人
英特尔股份有限公司 INTEL CORPORATION
发明人
陈 汉威 THEN, HAN WUI;朱功 班杰明 CHU-KUNG, BENJAMIN;达斯古塔 山萨塔克 DASGUPTA, SANSAPTAK;赵 罗伯特 CHAU, ROBERT;宋承宏 SUNG, SEUNG HOON;皮拉瑞斯提 拉维 PILLARISETTY, RAVI;拉多撒福杰维克 马可 RADOSAVLJEVIC, MARKO
分类号
H01L29/06(2006.01);H01L29/41(2006.01);H01L29/66(2006.01)
主分类号
H01L29/06(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
美国 US
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