化合物以及包含其之光阻组成物;COMPOUNDS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME

摘要

本发明之化合物系选自由以特定之式(1-1)以及(1-2)表示之化合物构成之群。由于具有该构造，故本发明之化合物具有高的耐热性及高的溶解性，且使用作为阻剂材料之原料时可减低阻剂图型之粗糙度。本发明之化合物可较好地利用于半导体用光阻等之感光性材料之基底化合物等。