发明名称 SILICON NITRIDE SUBSTRATE METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND SILICON NITRIDE CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR MODULE USING THE SAME
摘要 <p>질화규소원료 분말에, 산화마그네슘을 3 내지 4중량%, 적어도 1종의 희토류원소의 산화물을 2 내지 5중량%, 또한, 합계의 비율이 5 내지 8중량%로 되도록 혼합하여, 씨트 성형체로 해서 소결한 후, 복수매 포갠 상태에서 0.5 내지 6.0㎪의 하중을 인가하면서 1550 내지 1700℃로 열처리함으로써, 휨 및 표면 조도가 적합하게 조정된 질화규소 기판을 제조할 수 있다. 또한, 이것을 사용한 질화규소 회로기판 및 반도체 모듈을 제공한다.</p>
申请公布号 KR101569421(B1) 申请公布日期 2015.11.16
申请号 KR20090018856 申请日期 2009.03.05
申请人 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 发明人 카가 요이치로;와타나베 준이치
分类号 H01L21/20;H01L21/84 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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