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发明名称 SHOWERHEAD ELECTRODE
摘要 <p>반도체 기판들을 에칭하기 위한 플라즈마 반응 챔버에서의 샤워헤드 전극, 가스켓 세트 및 그 어셈블리에는 향상된 가스 주입 홀 패턴, 포지셔닝 정확도 및 감소된 휘어짐이 제공되며, 이는 플라즈마 프로세싱 레이트의 강화된 균일도를 초래한다. 내측 전극 및 가스켓 세트를 지지 부재에 어셈블링하는 방법은 캠 록들의 동시적 맞물림을 포함한다.</p>
申请公布号 KR200478781(Y1) 申请公布日期 2015.11.13
申请号 KR20137000011U 申请日期 2011.08.25
申请人 램 리써치 코포레이션 发明人 데 라 렐라 안토니;만키디 프라티크;켈로그 마이클 씨;딘드사 라진더
分类号 H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/46 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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