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본 개시물은 공정 중에 5-(클로로메틸)푸르푸랄의 분해 또는 변성을 감소시키거나 최소화하는 작동 조건에서 5-(클로로메틸)푸르푸랄을 포함하는 5-(할로메틸)푸르푸랄 조성물을 정제하는 방법을 제공한다. 방법은 특정 용제, 작동 조건, 및/또는 기술 (예를 들어, 가스 스트리핑)을 이용할 수도 있다. 공정으로부터 생성된 기체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 액체 또는 고체 형태의 5-(할로메틸)푸르푸랄을 수득하기 위해 응결되거나 침착될 수 있다. 고체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 무정형 또는 결정형일 수도 있다. |
