| 摘要 |
<p>本開示の局面は、デバイスの実質的に同一平面上の２つの層間の相対的位置の測定に用いられる標的を記載する。この標的は、第１の層および第２の層内の周期的構造を含む。第１の周期的構造および第２の周期的構造と各デバイス様構造との間の第１の層および第２の層の相対的位置の差を測定して、第１の周期的構造および第２の周期的構造間の第１の層および第２の層の相対的位置を修正することができる。本要約は、検索者または他の読者が本技術開示の内容を素早く確認できるようにするための要約を必要とする規則に基づいて提供されたものであることが強調される。本要約は、特許請求の範囲の範囲または意味を解釈または制限するために用いられるものではないものであるという理解の下に提出される。</p> |
