| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines partiell demetallisierten Schichtelements, umfassend die Schritte: – Bereitstellen eines Schichtelements, aufweisend – ein Trägersubstrat mit einer Fläche, die mindestens einen ersten und einen zweiten Bereich aufweist, wobei der erste Bereich eine erste Struktur aufweist, die von einer zweiten Struktur des zweiten Bereichs verschieden ist, und – mindestens einer auf der Fläche des Trägersubstrats angeordneten Metallschicht; und – Entfernen der Metallschicht durch Anregung von Oberflächenplasmon-Polaritonen mittels elektromagnetischer Strahlung in dem ersten Bereich, der die erste Struktur aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Schichtelement und eine Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens. |
